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电子工业用混合气是指在大规模集成电路(LSI)、超大规模集成电路(VLSI)和半导体器件制造中,用于气相外延生长、化学气相淀积、掺杂、蚀刻和离子注入等工艺(工序)的一类特殊电子混合气。 查看详情
碳氢化合物有甲烷CH4、乙炔C2H2、乙烯C2H4、乙烷C2H6、甲基乙炔C2H4或CH3CCH、丙二烯C3H4或CH2CCH2、丙烯C3H6或CH3CHCH2、环丙烷C3H6、丙烷C3H8、乙烯基乙炔C4H4或CH2CHCCH、1,3-丁二烯C4H6或H2CCHCHCH2、2-丁炔C4H6或CH3CCCH3、乙基乙炔C4H8或CH3CH2CCH、1-丁烯... 查看详情
氯化物有:氯Cl2、氯化氢HCl、三氯化硼BCl3、四氯化碳CCl4、四氯硅烷SiCl4、四氯化锗GeCl4、四氯化锡SnCl4、三氯化磷PCl3、五氯化磷PCl5、三氯化砷AsCl3、三氯化锑SbCl3、五氯化锑SbCl5、二氯甲烷CH2Cl2、氯甲烷CH3Cl、三氯乙烯C2HCl3、氯乙烯C2H3Cl、氯乙烷C2H5Cl或... 查看详情
溴化物有溴Br2、溴化氢HBr、氯化溴BrCl、三溴化硼BBr3、三溴化磷PBr3、溴甲烷CH3Br、溴乙烷C2H5Br、溴乙烯C2H3Br。碘化物有碘化氢HI。 查看详情
氟化物主要有:氟化氢HF、四氟化碳CF4、氟F2、三氟化硼BF3、四氟乙烯C2F4、六氟乙烷C2F6、六氟丙烯C3F6或CF3CFCF2、八氟丙烷C3F8、全氟丁烯C4F8或CF3CFCFCF3、八氟环丁烷C4F8或CF2CF2CF2CF2、全氟丁烷C4F10、四氟丁烷SiF4、六氟乙硅烷Si2F6、四氟化锗GeF4、三氟化氮... 查看详情
氧化物主要有:臭氧O3、二氧化碳CO2、一氧化碳CO、一氧化二氮N2O、二氧化氮NO2或N2O4、一氧化氮NO、三氧化氮N2O3、二氧化硫SO2、三氧化硫SQ3、羰基硫Ni(CO)4、羰基铁C5FeO5或Fe(CO)5。 查看详情
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